XY電動(dòng)載物臺(tái)用加溫冷卻

linkam冷熱臺(tái)恒溫
Linkam TST350張力熱臺(tái)
Linkam THMSG600冷熱臺(tái)，冷卻速度可從0.01℃/分鐘至150℃/分鐘

THMS350V 真空冷熱臺(tái)
是FDCS196型號(hào)冷凍干燥臺(tái)外的另一選擇，溫度范圍從 -195°C 到 350°C
Linkam改進(jìn)了工作臺(tái)體和溫控元件，使用一個(gè)簡(jiǎn)易的2.5m3/h的真空泵可形成壓力為10-3 mbar真空，擴(kuò)大溫度范圍從-196℃—350℃。
用一個(gè)真空端口代替氣閥，先把氣體抽空，再放進(jìn)需要的氣體，可以在幾乎沒(méi)有樣品氣體或者空氣污染的環(huán)境下進(jìn)行超低溫實(shí)驗(yàn)。
連接一個(gè)真空泵到MV196電動(dòng)閥上，通過(guò)軟件控制屏可以快速、準(zhǔn)確的給各種樣品加壓。
Linkam冷熱臺(tái)THMS350V的性能

溫度范圍-196℃—350℃（帶有LNP冷卻泵）
加熱/冷卻速率高達(dá)30℃/min
溫度穩(wěn)定性<0.1℃
100歐姆鉑電阻傳感器的精確測(cè)量
冷卻液直接注射到加熱元件
16mm的XY樣品操作
直徑為22mm的樣品區(qū)域
即便是XY操作也能使得真空密閉樣品室壓力達(dá)到10-3mbar
單一的超薄窗蓋窗口0.3mm

BCS196 低溫生物應(yīng)用冷熱臺(tái)
是為低溫生物學(xué)研究而設(shè)計(jì)制造的, 液氮在溫度控制器的控制下由液氮泵自動(dòng)注入銀臺(tái)
溫度反饋由A級(jí)pt100鉑電阻完成，響應(yīng)時(shí)間<0.01s。
銀臺(tái)的結(jié)構(gòu)可以減小液氮的涌流并使溫度變化引起的銀臺(tái)垂向移動(dòng)最小，從而消除重新聚焦的可能性。穩(wěn)定測(cè)量的另一個(gè)措施是樣品夾持器的設(shè)計(jì)采用非常低膨脹系數(shù)的不脹鋼，保證溫度的變化對(duì)樣品的水平位置沒(méi)有影響。這種穩(wěn)定性要求對(duì)共聚焦顯微鏡方法和高倍顯微鏡方法來(lái)說(shuō)是基本的。
循環(huán)的氮?dú)庥脕?lái)吹掃熱臺(tái)防止?jié)駳獗苊饫淠?，從而保證采集到清晰高分辨的圖像。
對(duì)于超高速冷卻，熱臺(tái)內(nèi)部可以增加一個(gè)銅柱和快推柄。通過(guò)快推柄，可以把銅柱上的樣品快速移動(dòng)到事先設(shè)定冷凍溫度的銀臺(tái)上，達(dá)到瞬間降溫的目的。
高速淬火冷卻是通過(guò)把樣品高速?gòu)囊粋€(gè)銅質(zhì)‘溫柱’移動(dòng)到預(yù)冷的冷卻塊上。由于速度可以從5 變化到 5000μm/s，因此可以觀察到極高冷卻速率下的結(jié)晶化反應(yīng)。樣品載臺(tái)的位置可以從軟件的分割窗口上觀察到，并通過(guò)簡(jiǎn)單地點(diǎn)擊圖象就可以把樣品載臺(tái)從溫柱上移到光孔上。這種高速冷卻的方法甚至比把樣品放入液氮中還要快，同時(shí)低溫生物學(xué)家們可以密切觀察變化現(xiàn)象。在冷卻管線(xiàn)的一邊有一個(gè)冷點(diǎn)，可以進(jìn)行晶核冷凍。
TS1500V 真空高溫?zé)崤_(tái)
TS1500高溫?zé)崤_(tái)廣泛用于制陶、冶金、地質(zhì)、高溫聚合物等樣品觀察和研究
高溫?zé)崤_(tái)的加熱單元由纏繞著鉑金絲的陶質(zhì)杯組成，陶質(zhì)杯形成了樣品室并有一個(gè)為透射光應(yīng)用的中心孔。控制熱電偶被粘接在孔的內(nèi)部，測(cè)點(diǎn)與杯子的上表面齊平。一個(gè)7mm的藍(lán)寶石樣品圓片放在杯子里并與熱電偶接觸，保證樣品的溫度測(cè)量準(zhǔn)確。 藍(lán)寶石具有卓越的導(dǎo)熱性，也是理想的用于高溫下載物片。在熱輻射防護(hù)蓋的保護(hù)下，樣品通過(guò)底部和側(cè)面均勻加熱。
用于控制熱臺(tái)溫度的溫度程序控制器由一個(gè)直流電源（用于消除電磁干擾）和固體加熱器保護(hù)（避免熱臺(tái)的意外損害）構(gòu)成。閉合的溫度系統(tǒng)容許以200°C /min的速率快速加熱，系統(tǒng)響應(yīng)非常快。
為了保護(hù)用戶(hù)和鏡頭，熱臺(tái)體和熱臺(tái)蓋通過(guò)外部獨(dú)立的水冷卻系統(tǒng)冷卻。
高溫?zé)崤_(tái)也可以連接真空系統(tǒng)，形成高溫真空臺(tái)。也可以在高溫臺(tái)內(nèi)部加裝電極，形成帶電極高溫臺(tái)?；蛘邇煞N方式的組合，帶電極高溫真空臺(tái)。真空度可達(dá)10-3mbar。也可以和 Pfeiffer 公司HiCube 80型號(hào)分子真空泵一起使用，提高真空度。
參數(shù)：
溫度范圍：室溫到1500℃